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Ausschreibung: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke - DE-München
Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Dokument Nr...: 281642-2019 (ID: 2019061809170571784)
Veröffentlicht: 18.06.2019
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  DE-München: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
   2019/S 115/2019 281642
   Auftragsbekanntmachung
   Lieferauftrag
   Legal Basis:
   Richtlinie 2014/24/EU
   Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
   I.1)Name und Adressen
   Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
   über Vergabeportal deutsche eVergabe
   Hansastr. 27c
   München
   80686
   Deutschland
   E-Mail: [1]fraunhofer@deutsche-evergabe.de
   NUTS-Code: DE212
   Internet-Adresse(n):
   Hauptadresse: [2]http://www.fraunhofer.de
   Adresse des Beschafferprofils: [3]http://www.deutsche-evergabe.de
   I.2)Informationen zur gemeinsamen Beschaffung
   I.3)Kommunikation
   Die Auftragsunterlagen stehen für einen uneingeschränkten und
   vollständigen direkten Zugang gebührenfrei zur Verfügung unter:
   [4]http://www.deutsche-evergabe.de
   Weitere Auskünfte erteilen/erteilt die oben genannten Kontaktstellen
   Angebote oder Teilnahmeanträge sind einzureichen elektronisch via:
   [5]http://www.deutsche-evergabe.de
   I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
   Andere: Forschungsgesellschaft e. V.
   I.5)Haupttätigkeit(en)
   Andere Tätigkeit: Foschung und Entwicklung
   Abschnitt II: Gegenstand
   II.1)Umfang der Beschaffung
   II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:
   Cluster Tool for Nanomaterials
   Referenznummer der Bekanntmachung: E_134_253739 ChrPat-bla
   II.1.2)CPV-Code Hauptteil
   42990000
   II.1.3)Art des Auftrags
   Lieferauftrag
   II.1.4)Kurze Beschreibung:
   The planned acquisition comprises a cleanroom compatible cluster tool
   for sputter deposition and rapid thermal annealing of composite films
   and multilayers stacks for nanotechnological devices on 200 mm
   substrates. The main application of the tool is concentrated on film
   based nanotechologies with a special focus on metal-oxide based
   devices.
   The tool should consist of a central handling module, a magazine load
   lock and two process chambers, which allows the single wafer handling
   between the process chambers without vacuum break.
   For the sputter chamber intended materials are metals, e.g. Al, metal
   oxides and nitrides, e.g. TiO2, Ta2O5, TiN, perovskites, e.g. BiFeO3,
   YMnO3, semiconductors, e.g. Si, Ge, IGZO, as well as piezoelectric
   materials for NEMS, e.g. AlN. Therefore, a confocal sputter source
   arrangement of at least 3 sources in combination with a rotating
   substrate are necessary. The substrate table should have a heating
   functionality up to 600 ^oC with an allowed temperature
   II.1.5)Geschätzter Gesamtwert
   II.1.6)Angaben zu den Losen
   Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
   II.2)Beschreibung
   II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:
   II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)
   II.2.3)Erfüllungsort
   NUTS-Code: DED4
   Hauptort der Ausführung:
   09126 Chemnitz
   II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:
   The planned acquisition comprises a cleanroom compatible cluster tool
   for sputter deposition and rapid thermal annealing of composite films
   and multilayers stacks for nanotechnological devices on 200 mm
   substrates. The main application of the tool is concentrated on film
   based nanotechologies with a special focus on metal-oxide based
   devices.
   The tool should consist of a central handling module, a magazine load
   lock and two process chambers, which allows the single wafer handling
   between the process chambers without vacuum break.
   For the sputter chamber intended materials are metals, e.g. Al, metal
   oxides and nitrides, e.g. TiO2, Ta2O5, TiN, perovskites, e.g. BiFeO3,
   YMnO3, semiconductors, e.g. Si, Ge, IGZO, as well as piezoelectric
   materials for NEMS, e.g. AlN. Therefore, a confocal sputter source
   arrangement of at least 3 sources in combination with a rotating
   substrate are necessary. The substrate table should have a heating
   functionality up to 600 ^oC with an allowed temperature deviation of ±
   5 K over a 200 mm substrate. As an option, the chamber should include
   an active reactive gas control system based on a spectroscopic
   measurement principle, e.g. OES, to trace and adapt the flow of the
   reactive gases O2 and N2. The possibility to apply an RF-bias on the
   substrate table is an additional eligible option. Finally the chamber
   should have co-sputter-, rf-sputter, reactive sputter and programmable
   pulsed sputter functionalities as well as combinations of these. The
   allowed thickness deviation, less a 5 mm edge exclusion, depends on the
   process and the deposited materials. It should be roughly in the rage
   of ± 3 % up to ± 5 %.
   The RTP chamber should reach a maximum temperature of 1200 ^oC and a
   maximum heating ramp of 200 K/s. Less a 5 mm edge exclusion the
   temperature homogeneity over a 200 mm substrate should be ± 1 K. The
   chamber should be equipped with an active temperature control using
   corresponding pyrometers for in situ temperature measurement. A
   possibly operating of the chamber under high vacuum conditions is a
   desirable optional feature for the RTP module.
   II.2.5)Zuschlagskriterien
   Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium; alle Kriterien sind
   nur in den Beschaffungsunterlagen aufgeführt
   II.2.6)Geschätzter Wert
   II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des
   dynamischen Beschaffungssystems
   Laufzeit in Monaten: 12
   Dieser Auftrag kann verlängert werden: nein
   II.2.9)Angabe zur Beschränkung der Zahl der Bewerber, die zur
   Angebotsabgabe bzw. Teilnahme aufgefordert werden
   Geplante Mindestzahl: 3
   Höchstzahl: 5
   II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote
   Varianten/Alternativangebote sind zulässig: nein
   II.2.11)Angaben zu Optionen
   Optionen: ja
   Beschreibung der Optionen:
   1) Free space for installation of a fourth sputtering source with dummy
   plate;
   2) Fourth sputter cathode for HF sputtering with overlaid programmable
   pulsed DC power;
   3) All necessary generators, at least 300 W generator power, as well as
   other required components for an adjustable substrate HF-bias feature
   (13.56 MHZ) in the sputter chamber;
   4) A stepper motor controlled high vacuum control valve for a
   continuously regulation of the pump cross section provided for the
   rapid thermal processing chamber;
   5) Signal light tower.
   II.2.12)Angaben zu elektronischen Katalogen
   II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
   Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm,
   das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
   II.2.14)Zusätzliche Angaben
   Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische
   Angaben
   III.1)Teilnahmebedingungen
   III.1.1)Befähigung zur Berufsausübung einschließlich Auflagen
   hinsichtlich der Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister
   Auflistung und kurze Beschreibung der Bedingungen:
   The documents listed in the following must be presented in full with
   the tender. Incomplete documents could lead to exclusion from the
   procedure.
   III.1.2)Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
   Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:
   1) Company profile and the actual amount of employees;
   2) Designation of the company revenue for the last 3 business years;
   3) Self-declaration regarding the lack of exclusion criteria pursuant
   to § 123 and § 124 of the German Act Against Restraints of Competition
   (GWB);
   4) Excerpt from the Central Trade Register according to § 150a GewO (is
   requested by the client).
   III.1.3)Technische und berufliche Leistungsfähigkeit
   Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:
   1) Complete references (including contact persons with contact data)
   from comparable projects, which were realized in the last 3 years.
   III.1.5)Angaben zu vorbehaltenen Aufträgen
   III.2)Bedingungen für den Auftrag
   III.2.2)Bedingungen für die Ausführung des Auftrags:
   In the event that subcontractors are used, they must be named and their
   suitability is likewise to be substantiated on the basis of the listed
   documents. Furthermore, it must be confirmed that they will be
   available if the order is placed; and their share in the scope of the
   contractual object must be stated.
   III.2.3)Für die Ausführung des Auftrags verantwortliches Personal
   Abschnitt IV: Verfahren
   IV.1)Beschreibung
   IV.1.1)Verfahrensart
   Verhandlungsverfahren
   IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen
   Beschaffungssystem
   IV.1.4)Angaben zur Verringerung der Zahl der Wirtschaftsteilnehmer oder
   Lösungen im Laufe der Verhandlung bzw. des Dialogs
   IV.1.5)Angaben zur Verhandlung
   IV.1.6)Angaben zur elektronischen Auktion
   IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
   Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja
   IV.2)Verwaltungsangaben
   IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
   IV.2.2)Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge
   Tag: 17/07/2019
   Ortszeit: 23:59
   IV.2.3)Voraussichtlicher Tag der Absendung der Aufforderungen zur
   Angebotsabgabe bzw. zur Teilnahme an ausgewählte Bewerber
   IV.2.4)Sprache(n), in der (denen) Angebote oder Teilnahmeanträge
   eingereicht werden können:
   Englisch
   IV.2.6)Bindefrist des Angebots
   IV.2.7)Bedingungen für die Öffnung der Angebote
   Abschnitt VI: Weitere Angaben
   VI.1)Angaben zur Wiederkehr des Auftrags
   Dies ist ein wiederkehrender Auftrag: nein
   VI.2)Angaben zu elektronischen Arbeitsabläufen
   VI.3)Zusätzliche Angaben:
    Request of documents - available at: The award documents can be
   retrieved
   Exclusively through the award portal of the German e-Vergabe at
   [6]www.deutsche-evergabe.de. With the tender submission, contenders are
   also subject to the provisions regarding unsuccessful tenders (§134 GWB
   [German Act Against Restraints of Competition]). Questions or remarks
   from the tenderer must be sent, in English only, exclusively via e-mail
   to the contact point named underNo. I.1. As far as relevant, responses
   to the questions or remarks of the tenderer shall also be sent to all
   other tenderers.
   Pursuant to Section 9 Par. 3 S. 2 VgV (German public procurement
   regulation), the contract notice and the award documents are available
   to you at the German eVergabe with or without registration.
   Please note that registration is required for requests to participate,
   tender submissions and tenderer questions.
   We therefore recommend early registration, also in order to receive any
   tenderer information; you otherwise bear the risk of possible tender
   exclusion.
   VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
   VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
   Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
   Villemombler Straße 76
   Bonn
   53123
   Deutschland
   VI.4.2)Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren
   VI.4.3)Einlegung von Rechtsbehelfen
   Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen:
   A request for review is inadmissible if more than 15 calendar days have
   passed since the receipt of the notification from the ordering party
   indicating a lack of willingness to help with the objection (§ 160 Par.
   3 Clause 1 No. 4 GWB ). A
   request for review is additionally inadmissible if the contract has
   been awarded before the Vergabekammer 
   has informed the ordering party of the request for review (§§ 168 Par.
   2 Clause 1, 169 Par. 1 GWB). The award of the contract is possible 15
   calendar days after the dispatch of the tenderer information pursuant
   to § 134 Par. 1 GWB. If the information is sent electronically or via
   fax, this time period is reduced to ten calendar days (§ 134 Par. 2
   GWB). The time period begins on the day after the dispatch of the
   information by the ordering party; the day on which it is received at
   the concerned tenderer and applicant is not relevant. The admissibility
   of a request for review furthermore presupposes that a complaint has
   been made to the ordering party with regard to the asserted procurement
   violations within 10 days after knowledge was obtained of it (§ 160
   Par. 3 Clause 1 No. 1 GWB). Complaints regarding violations of
   procurement rules that are apparent on the basis of the announcement
   must be made to the ordering party before the expiration of the time
   period named in the announcement for the application or for the
   tendering (§ 160 Par. 3 Clause 1 No. 1 GWB). Complaints regarding
   violations of procurement rules that do not become apparent until
   appearing in the award documents must be made to the ordering party no
   later than by the expiration of the time period for the application or
   for the tendering (§ 160 Par. 3 Clause 1 No. 1 GWB).
   VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen
   erteilt
   Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
   über Vergabeportal eVergabe
   Hansastraße 27c
   München
   80686
   Deutschland
   E-Mail: [7]einkauf@zv.fraunhofer.de
   Internet-Adresse: [8]http://www.fraunhofer.de
   VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
   14/06/2019
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   2. http://www.fraunhofer.de/
   3. http://www.deutsche-evergabe.de/
   4. http://www.deutsche-evergabe.de/
   5. http://www.deutsche-evergabe.de/
   6. http://www.deutsche-evergabe.de/
   7. mailto:einkauf@zv.fraunhofer.de?subject=TED
   8. http://www.fraunhofer.de/
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