Ausschreibungen und Aufträge: Rastersondenmikroskope - DE-Dresden Rastersondenmikroskope Dokument Nr...: 101425-2020 (ID: 2020030209070593091) Veröffentlicht: 02.03.2020 * DE-Dresden: Rastersondenmikroskope 2020/S 43/2020 101425 Bekanntmachung vergebener Aufträge Ergebnisse des Vergabeverfahrens Lieferauftrag Rechtsgrundlage: Richtlinie 2014/24/EU Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber I.1)Name und Adressen Offizielle Bezeichnung: Helmholtz-Zentrum Dresden Rossendorf e. V. Postanschrift: Bautzner Landstraße 400 Ort: Dresden NUTS-Code: DED2 Postleitzahl: 01328 Land: Deutschland Kontaktstelle(n): Abteilung Vergabe- und Beschaffungswesen E-Mail: [6]vergabe@hzdr.de Fax: +49 3512603166 Internet-Adresse(n): Hauptadresse: [7]www.hzdr.de I.2)Informationen zur gemeinsamen Beschaffung I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers Andere: Großforschungseinrichtung I.5)Haupttätigkeit(en) Andere Tätigkeit: Forschung Abschnitt II: Gegenstand II.1)Umfang der Beschaffung II.1.1)Bezeichnung des Auftrags: Nanolithographiegerät Referenznummer der Bekanntmachung: EUOV1911 II.1.2)CPV-Code Hauptteil 38514200 II.1.3)Art des Auftrags Lieferauftrag II.1.4)Kurze Beschreibung: Das Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung betreibt ein Nanostrukturlabor, in dem elektronische Materialien strukturiert und kontaktiert werden können. In diesem Rahmen wurde in den letzten Jahren eine Anlage entwickelt, mit der 2 dimensionale Halbleiter unter inerter Atmosphäre deponiert und kontaktiert werden können. Für die elektrische Kontaktierung auf der Nanoskala soll ein Lithografiegerät beschafft werden, dass Nanostrukturen herstellen kann, ohne dass diese inerte Atmosphäre verlassen werden muss. II.1.6)Angaben zu den Losen Aufteilung des Auftrags in Lose: nein II.1.7)Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.) Wert ohne MwSt.: 0.01 EUR II.2)Beschreibung II.2.1)Bezeichnung des Auftrags: II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s) II.2.3)Erfüllungsort NUTS-Code: DED2 Hauptort der Ausführung: Nöthnitzer Str. 61 01187 Dresden Deutschland II.2.4)Beschreibung der Beschaffung: Zu dem oben beschriebenen Zweck wird ein Gerät benötigt, das in der bereits vorhandenen Handschuhbox, die die inerte Atmosphäre sicherstellt, betrieben werden kann. Eine solche Methode ist die sogenannte thermische Nanolithographie (engl.: thermal nanolithography), die vor kurzem entwickelt wurde. Es hat sich erwiesen, dass Kontakte, die mit dieser Methode an 2d-Materialien hergestellt werden, weitaus geringere Schottky Barrieren aufweisen, als dies mit anderen Verfahren der Fall ist (X. Zheng, et al., Nat Electron 2, 17 (2019)). Da geringe Schottky Barrieren für die Entwicklung von elektronischen Bauelementen, die auf 2d-Halbleitern basieren, unerlässlich sind, muss das hier zu beschaffende Gerät Kontakte mit thermischer Nanolithographie herstellen können. Zu der im Angebotspreis anzubietenden Leistung gehören: Aufbau, Installation und Einweisung der Bediener am Aufstellort Abnahme auf Aufstellort (SAT), im Rahmen der Abnahme sind folgende Kriterien durch den Auftragnehmer (AN) nachzuweisen: Nachweis der Funktion aller Komponenten wie Systemsteuerung, Temperaturkontrolle, optisches Mikroskop, Srukturierung und AFM. Die Funktionsweise der AFM und Struktrietungseinheit wird insbeondere durch Strukturierung und Charakterisierung von geeigneten Testmustern durchgeführt. Die Testmuster sollen folgende Eigenschaften demonstrieren: Linienaarys mit Periodizitäten (half pitch) von 30 nm, 60 n, 120 nm in einer Lackdicke von mindestens 4 nm. Die Linien werden mit einer Pixelgröße 10 nm abgebildet. Die größeren Strukturen sollen mit einer Pixelgröße von 30 nm und einer Scangeschwindigkeit von 30s/Pixel (entsprechend einer Geschwindikeit von 0,5 mm/s) abgebildet werden. Die Rotation des Substrats soll keinen Einfluss auf die Abbildung haben, dies soll an Hand von Aufnahmen unter 0^o, 45^o und 90^o nachgewiesen werden. Es soll nachgewiesen werden, dass der Versatz zwischen 2 benachbarten Schreibfeldern 50 nm nicht überschreitet (Stitching error). Der Versatz von 2 Strukturen im selben Schreibfeld nach Verfahren des Tisches soll ebenfalls nicht mehr als 50 nm betragen. Die Strukturen im zweiten Schreibfeld sollen dabei jeweils an Strukturen im ersten Schreibfeld, die im AFM abgebildet werden, ausgerichtet werden. Beide Messungen können an Hand eines Nonius, von dem je ein Teil pro Schreibfeld geschrieben wird, ausgelesen werden. Die Topografie in AFM Aufnahmen soll mit einer vertikalen Genauigkeit von 0,4nm bestimmt werden. 12 Monate Garantie ab Abnahme CE-Kennzeichnung II.2.5)Zuschlagskriterien Preis II.2.11)Angaben zu Optionen Optionen: nein II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein II.2.14)Zusätzliche Angaben Abschnitt IV: Verfahren IV.1)Beschreibung IV.1.1)Verfahrensart Offenes Verfahren IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem IV.1.6)Angaben zur elektronischen Auktion IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA) Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja IV.2)Verwaltungsangaben IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren Bekanntmachungsnummer im ABl.: [8]2019/S 247-608669 IV.2.8)Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems IV.2.9)Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation Abschnitt V: Auftragsvergabe Auftrags-Nr.: 1 Bezeichnung des Auftrags: Nanolithographiegerät Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja V.2)Auftragsvergabe V.2.1)Tag des Vertragsabschlusses: 24/02/2020 V.2.2)Angaben zu den Angeboten Anzahl der eingegangenen Angebote: 1 Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1 Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 1 Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein V.2.3)Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde Offizielle Bezeichnung: SwissLitho AG Postanschrift: Technoparkstrasse 1 Ort: Zurich NUTS-Code: CH0 Postleitzahl: 8005 Land: Schweiz E-Mail: [9]sales-nano@himt.ch Telefon: +41 44/5003801 Der Auftragnehmer ist ein KMU: ja V.2.4)Angaben zum Wert des Auftrags/Loses (ohne MwSt.) Gesamtwert des Auftrags/Loses: 0.01 EUR V.2.5)Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen Abschnitt VI: Weitere Angaben VI.3)Zusätzliche Angaben: Der Gesamtwert der Beschaffung unter II.1.7) und der Gesamtwert des Auftrages unter V.2.4) werden zur Wahrung der Betriebs- und Geschäftsgeheimnisse des vorgesehenen Auftragnehmers nicht bekannt gegeben. Daher wurde der fiktive Wert 0,01 EUR eingetragen. VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren Offizielle Bezeichnung: Vergabekammer des Bundes Postanschrift: Villemomblerstr. 76 Ort: Bonn Postleitzahl: 53123 Land: Deutschland Telefon: +49 2289499-0 Fax: +49 2289499-163 VI.4.2)Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren VI.4.3)Einlegung von Rechtsbehelfen Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen: Rechtsbehelfe gemäß § 160 GWB: 1) Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein; 2) Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse an dem öffentlichen Auftrag oder der Konzession hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Absatz 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht; 3) Der Antrag ist unzulässig, soweit: (1) Der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt, (2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, (3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, (4) Mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Satz 1 gilt nicht bei einem Antrag auf Feststellung der Unwirksamkeit des Vertrags nach § 135 Absatz 1 Nummer 2. § 134 Absatz 1 Satz 2 bleibt unberührt. VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt Offizielle Bezeichnung: Vergabekammer des Bundes Postanschrift: Villemomblerstr. 76 Ort: Bonn Postleitzahl: 53123 Land: Deutschland Telefon: +49 2289499-0 Fax: +49 2289499-163 VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung: 27/02/2020 References 6. mailto:vergabe@hzdr.de?subject=TED 7. http://www.hzdr.de/ 8. https://ted.europa.eu/udl?uri=TED:NOTICE:608669-2019:TEXT:DE:HTML 9. mailto:sales-nano@himt.ch?subject=TED -------------------------------------------------------------------------------- Database Operation & Alert Service (icc-hofmann) for: The Office for Official Publications of the European Communities The Federal Office of Foreign Trade Information Phone: +49 6082-910101, Fax: +49 6082-910200, URL: http://www.icc-hofmann.de